第一章光刻胶产品概述.................................1
（一）光刻胶定义分 ..................................1
（二）光刻胶在集成电路领域的应用.....................3
1.紫外宽谱光刻胶.....................................8
2.g线（43nm）光刻胶..................................9
3.i线（365nm）光刻胶.................................9
4.krf（248nm）光刻胶................................10
5.Arf（193nm）光刻胶................................10
6.极紫外光刻胶......................................11
7.光敏聚酰亚胺......................................11
8.光刻胶辅助材料....................................12
（三）光刻胶在新型显示领域中的应用..................13
1.TFT一LcD领域......................................14
2.OLED领域..........................................16
（四）光刻胶在PCB领域中的应用.......................18
1.PCB简介...........................................18
2.光刻胶应用........................................23
（五）光刻胶配套试剂................................25
1.稀释剂（丅hinner）................................25
2.去边剂（EBR）.....................................25
3.显影液（Developer）...............................25
4.剥离液（SLripper）................................25
第二章集成电路领域用光刻胶市场概况..................26
（一）全球集成电路领域用光刻胶市场概况..............27
1.全球半导体行业玩状及发展趋势......................27
2.全球集成电路领域用光刻胶市场概况..................27
（二）中国集成电路领域用光刻胶市场概况..............32
1.中国半导体产业与市场概况..........................37
2.中国集成电路领域用光刻胶市场概况..................37
第三章中国新型显示领域用光刻胶市场概况..............41
（一）全球新型显示器领域用光刻胶市场概况............45
1.全球新型显示器产业与市场概况......................45
2.全球新型显示领域用光刻胶市场概况..................45
（二）中国新型显示领域用光刻胶市场概况..............47
1.PCB领域用光刻胶市场概况...........................50
2.全球pCB领域用光刻胶市场概况.......................50
第四章全球PCB产业与市场概况.........................51
（一）全球PCB领域用光刻胶市场概况...................55
1.中国PCB领域用光刻胶市场概况.......................55
2.中国PCB产业与市场概况.............................55
（二）中国PCB领域用光刻胶市场概况...................57
1.光刻胶行业发展现状分析............................58
2.总体市场情况分析..................................58
第五章光刻胶行业发展现状分析........................58
（一）总体市场情况分析..............................59
（二）竞争格局......................................61
（三）技术发展......................................61
第六章光刻胶主要原料行业发展现状....................62
（一）市场概况......................................65
1.集成电路光刻胶用树脂市场..........................67
2.集成电路光刻胶用单体市场..........................67
（二）竞争格局......................................67
1.树脂..............................................67
2.单体..............................................68
3.光引发剂..........................................68
第七章中国光刻胶行业发展............................68
（一）总体市场......................................68
（二）发展总体概况..................................70
（三）支持政策与规划................................70
（四）国产化........................................71
（五）主要供应商....................................72
（六）中国光刻胶厂商重点产品产能分布................75
第八章国内外光刻胶主要生产商概况....................78
（一）国外光刻胶主要生产厂商概况....................79
1.JSR ..............................................81
2.东京应化..........................................81
3.信越化学..........................................81
4.陶氏化学..........................................82
5.住友化学..........................................82
6.三菱化学..........................................83
7.LG化学............................................83
8.默克..............................................84
9.富士胶片..........................................84
10.东进.............................................84
（二）中国台湾主要光刻胶生厂商概况..................85
1.奇美..............................................85
2.铠旸..............................................86
3.新应材............................................86
4.达兴..............................................86
5.永光化学..........................................86
6.长兴化学..........................................87
（三）中国大陆光刻胶及原材料主要生产厂商概况........87
1.北京科华徽电子材料有限公司........................87
2.瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司................88
3.北京北旭电子材料有限公司..........................88
4.阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司..................89
5.上海新阳半导体材料股份有限公司....................89
6.江苏南大光电电子材料股份有限公司..................90
7.江苏艾森半导体材料股份有限公司....................90
8.江苏搏砚电子科技股份有限公司......................90
9.潍坊星泰克徽电子材料有限公司......................91
10.鼎材科技有限公司.................................91
11.江苏汉拓光学材料有限公司.........................92
12.上海飞凯材料科技股份有限公司.....................92
13.江苏雅克科技股份有限公司.........................93
14.深圳市容科技股份有限公司.........................93
15.杭州福斯特应用材料股份有限公司...................93
16.江苏广信感光新材料科技股份有限公司...............94
17.厦门恒坤新材料科技股份有限公司...................94
18.苏州理硕科技有限公司.............................95
19.浙江永太科技股份有限公司.........................95
20.咸阳中电彩虹集团控股有限公司.....................96
21.武汉柔显科技股份有限公司.........................96
22.徐州搏康信息化学品有限公司.......................96
23.明士新材料有限公司...............................97
24.波米科技有限公司.................................97
25.常州强力电子新材料股份有限公司...................97
26.天津久日新材料股份有限公司.......................98
27.山东圣泉新材料股份有限公司.......................98
28.北京八亿肘空液晶科技股份有限公司.................99
29.江苏怡达化学股份有限公司.........................99
30.江苏德纳化学股份有限公司.........................99
31.滨州裕能电子材料股份有限公司.....................100
32.江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司...............101
33.江苏润邦半导体材料科技有限公司...................101
34.浙江扬帆新材料股份有限公司.......................102
35.西安瑞联新材料股份有限公司.......................102
第九章中国光刻胶发展存在问题及建议..................103
（一）关键技术与瓶颈................................103
1.配方设计技术......................................103
2.成膜树脂和光敏剂设计与合成技术....................105
3.原材料纯化技术....................................105
4.规模化生产工艺设计技术............................105
5.生产稳定性和品质一致性管控技术....................105
（二）国内光刻胶发展存在问题........................105
1.企业规模小.研发投入不足.发展能力薄弱..............107
2.产业发展存在诸多瓶颈多领域受制于人................107
3.上下游密切合作机制尚未建立........................107
4.人才资源匮乏问题..................................107
（三）国内光刻胶发展建议............................108
1.加大扶持力度......................................108
2.培育重点企业做大做强..............................108
3.优化完善创新机制产业生态..........................108
4.加快培育专业人才队伍.发挥行业平台作用.............108
